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分步重復(fù)納米壓印光刻機

簡要描述:我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

  • 產(chǎn)品型號:EVG770 NT
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時間:2026-03-24
  • 訪  問  量: 4660

詳細介紹

        納米壓印機是一種科研設(shè)備,利用納米壓印技術(shù)將預(yù)制的模具圖案轉(zhuǎn)移到工件上,以制作出納米級別的微結(jié)構(gòu)。它是納米制造技術(shù)的一種,被廣泛應(yīng)用于納米電子、納米光子學(xué)、納米生物技術(shù)、微電機械系統(tǒng)等領(lǐng)域。
1. 簡介

我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機/紫外光納米壓印機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫入方法,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

2. 納米壓印設(shè)備主要應(yīng)用

主要使用連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作(例如:微鏡頭制作)。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,全緬的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

4. 紫外光納米壓印機參數(shù)特征

1)高效的晶圓級光學(xué)微透鏡主制造,直至SmartNIL的納米結(jié)構(gòu)®

2)簡單實施不同類型的主機

3)可變抗蝕劑分配模式

4)分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

5)用于壓印和脫模的原位力控制

6)可選的光學(xué)楔形誤差補償

7)可選的自動盒帶間處理

5. EVG770技術(shù)數(shù)據(jù)

參數(shù)名稱 參數(shù)值
晶圓直徑(基板尺寸) 100至300毫米
解析度 ≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持的工藝 軟UV-NIL納米壓印
曝光源 大功率LED(i線)> 100 mW /cm²
對準(zhǔn) 頂面顯微鏡,用于實時重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細校準(zhǔn)≤±300 nm
印刷模具到模具的放置精度 ≤1微米
有效印記區(qū)域 長達50 x 50毫米
自動分離 支持
預(yù)處理功能 涂層:液滴分配(可選)


6. 納米壓印工藝結(jié)果

分步重復(fù)納米壓印光刻機

 

圖1  微鏡頭

分步重復(fù)納米壓印光刻機

圖2  納米壓印結(jié)果(100納米分辨率)

 

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